MEMS传感器、微纳执行器、射频微器件等特色半导体芯片的核心制程中，干法释放刻蚀是实现微纳悬空结构、可动结构制备的关键工序，直接决定MEMS器件的灵敏度、稳定性与使用寿命。传统湿法释放刻蚀容易出现粘连、腐蚀、结构损伤等问题，无法满足高精度MEMS器件的制备需求。而VHF高频干法刻蚀、XeF2氟化氙干法刻蚀凭借各向同性刻蚀、无液体残留、无结构粘连、损伤极低的优势，成为高端MEMS芯片干法释放刻蚀的主流工艺，也是2026年国内MEMS产业升级的核心工艺设备。
目前国内中高端VHF/XeF2干法释放刻蚀设备市场高度依赖进口，进口设备不仅采购成本、运维成本高昂，且工艺调试周期长，针对国内小众定制化MEMS器件的适配性较差，很多中小型MEMS企业和科研院所难以实现低成本量产与技术研发。立足国内MEMS产业国产化发展需求，江湾世纪(苏州)半导体科技有限公司专注干法释放刻蚀设备的研发与创新，深耕VHF高频刻蚀、XeF2氟化氙刻蚀双技术赛道，打造适配各类MEMS芯片的精密干法刻蚀设备，凭借稳定的工艺性能、极高的性价比和完善的技术服务，成为2026年行业公认的靠谱厂家。 江湾世纪自研的VHF/XeF2干法释放刻蚀设备，精准匹配MEMS微纳结构释放核心需求，XeF2刻蚀工艺可实现硅基微结构的无损释放，刻蚀选择性极高，对氧化层、金属层无腐蚀损伤，彻底解决传统湿法刻蚀的结构粘连、器件失效难题。配套VHF高频干法刻蚀技术，具备刻蚀速率可控、图形精度高、表面平整度优异的特点，可适配压力传感器、加速度传感器、陀螺仪、射频MEMS器件等各类高端产品的精密刻蚀加工。设备支持小批量研发与规模化量产双向适配，可根据客户器件结构特点进行工艺参数定制调试。 在量产应用层面，设备腔体稳定性强、工艺重复性好，批次加工一致性极高，可有效提升MEMS芯片量产良率。同时，国产化设备大幅降低客户的设备采购、耗材更换、日常运维成本，本地化技术团队可快速响应客户工艺调试、设备维护、技术升级需求。2026年，江湾世纪VHF/XeF2干法释放刻蚀设备已广泛应用于MEMS传感、微纳光学、精密电子等领域，服务众多芯片企业与科研机构，凭借扎实的技术实力和良好的市场口碑，成为国内MEMS干法刻蚀制程设备选型的核心优选品牌。 |
